Különleges pamut arcmaszkot fejlesztettek a Kaliforniai Egyetem kutatói, amely napfényben egy óra alatt 99,999 százalékban képes megölni a rárakódott baktériumokat és vírusokat.
Peixin Tang, Gang Sun, Nitin Nitin és kollégái olyan új pamutanyagot akartak létrehozni, amely reaktív oxigénfajokat (ROS - molekuláris oxigénből származó, kémiailag reaktív molekulák) bocsát ki, ha napfénynek teszik ki, megölve az anyag felszínéhez tapadó mikrobákat, miközben mosható, újrafelhasználható és biztonságos használója számára – olvasható az Amerikai Kémiai Társaság közleményében. A maszkot fertőtleníteni lehet akár az ebédszünetben, ha a viselője napfényben tartózkodik, de beltéri fények által is, bár az kevésbé intenzív hatású.
Az ACS Applied Materials & Interfaces című tudományos folyóiratban bemutatott tanulmány szerint a kutatók hagyományos pamutanyaghoz 2-dietilaminoetil klorid (DEAE-CI) pozitív töltésű láncait kötötték. Ezt a módosított pamutanyagot megfestették egy negatív töltésű fényérzékenyítő oldatában (egy olyan vegyületben, amely fény hatására kibocsátja a reaktív oxigénfajokat), amelyet erős elektrosztatikus kölcsönhatásban kötöttek a DEAE-láncokhoz.
A kutatók kimutatták, hogy a napfény 60 percen belül megölte az általuk létrehozott anyagra telepített baktériumok 99,999 százalékát, és 30 percen belül semlegesítette a T7 bakteriofágot, egy vírust, amely egyes koronavírusoknál is ellenállóbb a reaktív oxigénfajoknak.
A további tesztelések kimutatták hogy az anyagot legalább tíz alkalommal kézzel ki lehetett mosni, és nem veszítette el antimikrobiális jellegét, ha folyamatosan napfénynek tették ki legalább hét napon át.
A kutatók szerint az anyag ígéretes alapanyag lehet többször használatos antibakteriális és -virális arcmaszkok és védőruhák készítéséhez.
